製品案内
Product information大面積対応プラズマCVD EPD-640R
概要
本装置は最大156㎜角基板まで対応可能なプラズマCVD装置です。
アーム式ロボットによる自動基板搬送と自動成膜ソフトウェアの組合せによりフルオート制御可能。
またALD装置やスパッタ装置の増設も可能で様々な実験が可能になりました。
製品仕様
１.到達圧力: 7×10⁻⁵Pa（プラズマCVD成膜室、搬送室、ロードロック室）
２.基板搬送 :アーム式ロボットによる自動搬送
３.基板サイズ: 50㎜角～最大156㎜角
４.基板加熱 :max400℃（プラズマCVD室）
５.プラズマ電極 :RF、VHF対応
６.成膜ソフト:ガス流量制御、圧力制御、基板温度制御、プラズマパワー制御、基板搬送
７.拡張性:スパッタ装置、ALD装置増設可能
