会社案内

Company infomation

代表取締役社長挨拶

エイコーグループについて

代表取締役社長挨拶

エイコーグループは1974年の創業以来、新しい真空技術のニーズに正面から挑み、様々な分野の基礎研究のお手伝いをしてまいりました。
特に超高真空技術を駆使した蒸着装置(MBE)、スパッタリング装置など成膜装置全般においては研究者のニーズに、真剣に向き合いながら1000台を超える装置の製作、納入をしてまいりました。
長年にわたりこの分野で貢献できましたのは、研究者の皆さまのご愛顧の賜物であると深く感謝申し上げます。
最近では太陽光発電パネル次世代不揮発性メモリーなど、世界一を目指す研究分野の装置開発にも取り組んでおります。
これからも最先端の真空技術を通して地球にやさしい装置開発をモットーにお客様の要望に応えてまいりますので、より一層のご支援とご指導をお願いします。

代表取締役社長　髙橋　泰平

エイコーグループについて

株式会社エイコーは、株式会社エイコー・エンジニアリングの出資のもとに、同社製品の販売及び米国RMC社製ウルトラミクロトーム（旧デュポンソーバルミクロトーム）等の輸入販売を旨として設立した会社です。エイコー・エンジニアリングの販売部門として直接販売しております。

会社概要

販売部門	株式会社エイコー
所在地	●本社〒101-0044　東京都千代田区鍛冶町2-10-7 フェスタビル2F ●関西営業所〒650-0037　兵庫県神戸市中央区明石町30　常盤ビル602 ●茨城営業所〒311-1251　茨城県ひたちなか市山崎50番地
代表取締役	髙橋泰平
取引銀行	常陽銀行ひたちなか支店／東邦銀行水戸支店／三菱UFJ銀行　水戸支店
製造部門	株式会社エイコー・エンジニアリング
所在地	〒311-1251　茨城県ひたちなか市山崎50番地
代表取締役	髙橋泰平
創立	1974年3月
製作販売品目	電子顕微鏡用各種試料作製装置スパッタリング装置真空蒸着装置超高真空応用機器電子ビーム及びイオンビーム応用機器分子線エピキタシー装置（MBE）電子線回折装置接合装置プラズマCVD装置 CVD装置ロールコーター装置 PXP成膜装置

取引先

＜国公私立大学＞	東京大学、京都大学、東北大学、九州大学、北海道大学、大阪大学、名古屋大学、秋田大学、山形大学、茨城大学、筑波大学、埼玉大学、東京工業大学、東京理科大学、早稲田大学、電気通信大学、青山学院大学、立命館大学、慶応義塾大学、防衛大学校、名古屋工業大学、大阪府立大学、熊本大学、佐賀大学、琉球大学、工学院大学、日本工業大学、芝浦工業大学、大阪工業大学、大阪電気通信大学、京都工芸繊維大学、神戸大学、龍谷大学、和歌山大学、高知大学、島根大学、豊橋技術科学大学、豊田工業大学、上智大学、木更津高専、長岡高専、鹿児島高専、東海大学、東京農工大学　他
＜国公立研究所＞	産業総合技術研究所、理化学研究所、日本原子力研究開発機構、物質・材料研究機構、熊本県産業技術センター、科学技術振興機構（JST）、電力中央研究所、情報通信研究機構、国立天文台、秋田県産業技術総合研究センター、日本放送協会（NHK技研）、分子科学研究所、福島再生可能エネルギー研究所、宇宙航空研究開発機構（JAXA）　他
＜民間研究所＞	旭硝子、旭化成、出光興産、オムロン、京セラ、船井電機、住友電気工業、ソニー、東芝、富士電機、富士通、富士フィルム、キヤノン、日産自動車、NEC、日本電子、凸版印刷、トヨタ自動車、古河電気工業、パナソニック、シャープ、三菱電機、三菱化学、村田製作所、TDK、スタンレー電気、HOYA、日立製作所、IHI、ソーラーフロンティア、昭和シエル石油、昭和電線ケーブルシステム、神戸製鋼、フジクラ　他
＜海外＞	ヨーク大学（英国）、ヴルツブルグ大学（独国）、ボッホム大学（独国）、チュラロンコン大学（タイ）、NUS（シンガポール）、ボストン大学（米国）、マックスプランク研究所（独国）、中央研究院（台湾）、韓国科学技術院（韓国）

沿革

株式会社エイコー

販売部門	株式会社エイコー
昭和61年7月	水戸市株式会社エイコー・エンジニアリング社出資のもとに、同社製品の販売及び米国RMC社製ウルトラミクロトーム（旧デュポンソーバルミクロトーム）等、輸入販売を旨として東京都渋谷区にアールエムシーエイコー（株）を設立。資本金1,700万円
平成元年8月	ユーザーとの共同開発設計をベースに新製品開発等、業務拡大を含め拠点を「かながわサイエンスパーク」に移転。
平成2年7月	社名を「株式会社エイコー」と改め、並びに半導体関連機器の開発設計部門を増設。
平成2年9月	資本金3,000万円に増資
平成12年9月	兵庫県神戸市に関西営業所（兵庫県神戸市中央区明石町30　常盤ビル602）を設立
平成18年4月	オフィスを、東京都千代田区神田東松下町12番地JBSL神田ビル4F に移転
平成30年3月	現住所（東京都千代田区鍛冶町2-10-7 フェスタビル2F）に移転

株式会社エイコー・エンジニアリング

製造部門	株式会社エイコー・エンジニアリング
昭和49年3月	電子顕微鏡周辺機器、研究用各種装置等の設計、製造を主業務とし、茨城県東海村に資本金200万円で株式会社エイコー・エンジニアリングを設立。
昭和53年2月	資本金600万円に増資
昭和55年4月	業容の拡大に伴い水戸市酒門町地内に社有地を取得、本社、営業所、工場を併せて建設し全面移転する。
昭和56年1月	資本金を1,800万円とした。
平成3年2月	更に業容の拡大に対応する為、茨城県那珂湊市（現ひたちなか市）山崎工業団地に進出。新工場を建設し全面移転し現在に至る。

製品開発の歩み

昭和49年	IB-1型　イオンコーターを開発、全国販売を始める。
昭和50年	IB-2型、IB-3型　イオンコーターを開発、製品化して販売開始する。
昭和51年	TF-1型　凍結割断器を開発、製品化する。 LD-10型　光回折装置開発、製品化する（レーザー光源を使用） IE-10型　イオンエッチング装置を開発、製品化する。（絶縁物用エッチングメッシュで特許を取得する。）
昭和52年	DX-1型　臨界点乾燥機を開発、製品化する。 FD-2型　凍結試料処理装置を開発、製品化する。 IB-5型　イオンコーターを開発、製品化する。
昭和53年	CE-10型　ケミカルエッチング装置開発、製品化する。 IE-20型　イオンシニング装置を開発、製品化する。
昭和54年	VX-10A　マルチコーターを開発、製品化する。 MB-1000型　RHEED（高速電子線反射電子回折装置）を製品化する。
昭和57年	FD-3型　凍結試料処理装置を開発、製品化する。 MBE装置1号機を受注し納入する。
昭和58年	RF-20型　瞬間凍結乾燥機を開発、製品化する。
昭和60年	HEMT研究開発用MBE装置を民間企業へ開発納入する。 EV-100型　MBE装置を開発、製品化する。
昭和61年	RMC-Eikoより電子顕微鏡関連の製品を販売開始する。真空一貫のマルチチャンバーシステムを受注し納入する。
昭和62年	EL-10型　MBE装置を酸化物高温超電導作製用として開発、製品化する。 FD-3A型FD-5A型　凍結試料処理装置を開発、製品化する。 HR-EELS高分解能電子エネルギー損失分光装置を開発、製品化する。
昭和63年	※新技術開発事業団（現JST）よりの委託で開発 EL-10A　反応型MBE装置を開発、民間企業へ納入する。
平成2年	超高真空スパッタリング装置を大学へ納入する。大型CVD装置を開発納入する。
平成3年	EV-500型MBE装置をドイツのヴルツブルグ大学へ輸出する。 MOMBE装置を開発納入する。
平成4年	有機MBE装置を開発納入する。 EL-10型 MBE装置を台湾へ輸出する。 MBE/FIB/EB/XPS分析装置のマルチチャンバーシステムを納入。
平成5年	大型マルチチャンバーシステムをドイツのヴルツブルグ大学へ輸出する。 CIGS太陽電池用MBE装置を大学へ開発納入する。
平成6年	AFM/STM複合装置を開発納入する。窒化Ga用MBE装置をアメリカのボストン大学へ輸出する。
平成7年	レーザーアブレーション装置を開発納入する。水冷MBE装置を開発して納入する。
平成8年	インライン型CIGS太陽電池作製装置を開発納入する。有機EL用大型蒸着装置を開発納入する。
平成9年	Si/Ge用MBE装置を開発納入する。
平成10年	有機EL用多室構成蒸着装置を開発納入する。 ICPイオンエッチング装置を開発納入する。 ES-350型　マルチターゲットスパッタ装置を開発し納入する。 XPS分析装置をSPring 8に納入する。
平成11年	超電導用レーザーアブレーション装置を開発納入する。 Si微結晶太陽電池用マルチチャンバーシステムCVD装置を開発納入。
平成12年	EB-5型　集束EB蒸着装置を開発製品化し納入する。
平成14年	EO-5型　簡易有機膜作製装置を開発して納入する。
平成15年	EO-10型　超真空有機デバイス開発装置を納入する。
平成17年	フィルムスパッタ用ロールコーターを開発納入する。
平成18年	大型CIGS用インライン太陽電池作製装置を開発納入する。
平成20年	薄膜太陽電池作製プラズマCVD装置を開発、納入する。
平成26年	ぺロブスカイト太陽電池作製装置EP-6を開発納入する。
平成27年	原子層堆積装置（ALD）EALD-4を開発納入する。
平成30年	イオンミリング装置IE-30を開発納入する。