製品案内

ピアス型電子銃を用いて、電子ビームを直線的に材料へＦｏｃｕｓし、溶幅、蒸発させるタイプの蒸着源を採用しましたので、

小さな電気量にて酸化物を含めて、高融点材料まであらゆる材料を使用することができます。

 

■ 成膜室
１．到達圧力 10⁻⁷Pa
２．基板寸法 1インチ
３．基板加熱温度 1000℃
４．ヒーター材質 Taヒーター
５．排気系 TMP345L/sec　　R.P162L/min
■ 集束EBガン
６．印加電圧 ～15ｋV、0.1A
７．フィラメント ヘアピン型　　Focus、Sweep付
■ ロードロック室
８．到達圧力 10⁻⁴Pa
９．排気系 TMP60L/sec　　R.P90L/min
■ オプション
１０．RHEED　/　ラジカル源　/　セル　/　EBガン　/　スパッタ源